你这里所说的“不同”,是不是指管式和板式的差别呢?管式PECVD的工艺原理是通过低压气氛的射频放电产生等离子体,辅助以加热系统,从而在wafer表面沉积镀膜;而板式PECVD则是通过石英管保护的铜管,将微波导入工艺腔室,从而加热气体等离子,最后实现在wafer表面沉积薄膜的目的。
你这里所说的“不同”,是不是指管式和板式的差别呢?管式PECVD的工艺原理是通过低压气氛的射频放电产生等离子体,辅助以加热系统,从而在wafer表面沉积镀膜;而板式PECVD则是通过石英管保护的铜管,将微波导入工艺腔室,从而加热气体等离子,最后实现在wafer表面沉积薄膜的目的。